Temel AMOLED Süreçlerini Ortaya Çıkarıyoruz: En Son Ekran Teknolojisi Geleceği Nasıl Şekillendiriyor?

 Küçük ve orta ölçekli tüketici elektroniği pazarında AMOLED ekran teknolojisi, yüksek kontrast ve esnek bükülebilirlik gibi avantajları nedeniyle üst düzey akıllı telefonlar, giyilebilir cihazlar ve kavisli ekranlı ürünler için tercih edilen seçenek haline geldi.

  Çekirdek yapısı bir OLED ışık yayan katman, TFT arka panel, metal elektrotlar, alt tabaka camı ve kasadan oluşur.

  Esnek AMOLED üretim süreci, alt tabaka temizleme/PI kaplama, arka panel TFT hazırlığı, OLED buharlaştırma ve kapsülleme, dokunmatik modül entegrasyonu, lazer kaldırma ve modül montajı gibi önemli adımları kapsar.

  Görüntü teknolojilerinin araştırılması, geliştirilmesi ve üretiminde uzmanlaşmış bir şirket olarak CNK Electronics Co., Ltd.始终, teknolojinin ön sıralarında yer almakta ve müşterilere OLED modülleri, LCD ekranlar ve özelleştirilmiş LCD ekranlar dahil olmak üzere çeşitli ekran çözümleri sunmaktadır.

  AMOLED'in temel üretim süreci, birçok yüksek teknik birim sürecini içerir. Arka Plan TFT (BP) işleminde, Düşük Sıcaklıklı Çok Kristalli Silikon (LTPS) teknolojisi, yüksek elektron hareketliliği nedeniyle ana akım haline geldi. Üst kapı yapısı süreci, tampon katmanı biriktirme, kanal iyon implantasyonu, lazer tavlama kristalizasyonu (ELA), kapı metali püskürtme ve kaynak drenajı implantasyonu gibi adımları içerir. Özel gazlar ince film biriktirme, modifikasyon ve dağlamada kritik bir rol oynar: örneğin, PECVD süreçleri a-Si/SiNx/SiOx ince filmleri biriktirmek için SiH₄/N₂O/NH₃ kullanır; Atomik Katman Biriktirme (ALD), Al₂O3 kapsülleme katmanlarını oluşturmak için TMA ve H₂O'yu kullanır; kuru aşındırma, BCl3'ün metal oksit katmanlarını azaltmak için kullanıldığı ve Cl2'nin uçucu aşındırma ürünleri ürettiği CF4/SF6/Cl2 gibi gazlar aracılığıyla yüksek hassasiyetli desenlendirme elde ederek temiz ve verimli bir süreç sağlar.

  Esnek AMOLED üretiminde, lazer kaldırma (LLO) ve ince film kapsülleme (TFE), ürün güvenilirliği açısından kritik öneme sahiptir. LLO işleminde esnek PI alt katmanını cam alt katmandan ayırmak için 308 nm XeCl excimer lazer kullanılırken TFE teknolojisinde nem ve oksijeni bloke ederek cihazın ömrünü uzatan çok katmanlı ince filmler kullanılır.

  Ek olarak iyon implantasyonu (IMP) işlemi, katkı atomları sağlamak için BF3/PH3/H2'yi kullanır ve Xe, yük birikimini önlemek için nötrleştirme gazı görevi görür.

  Ekran teknolojisi esnekliğe ve yüksek çözünürlüğe doğru ilerledikçe, AMOLED üretim sürecinin karmaşıklık ve hassasiyet gereksinimleri de artmaya devam ediyor. CNK Electronics, AMOLED ve LCD teknolojilerinin avantajlarını entegre ederek HMI insan-makine etkileşim modüllerinin performansını ve güvenilirliğini sürekli olarak optimize ederek tüketici elektroniği, endüstriyel kontrol ve diğer alanlar için yenilikçi ekran çözümleri sunar.

CNK Hakkında

  2010 yılında Shenzhen'de kurulan CNK Electronics (kısaca CNK), 2019 yılında Longyan, Fujian'daki dünya lideri fabrikasını genişletti. Ekran ürünlerinin tasarımı, geliştirilmesi, üretimi ve satışı konusunda uzmanlaşmış, uzmanlaşmış ve yenilikçi bir kuruluştur. CNK, müşterilerine dünya çapında mükemmel kalitede, uygun maliyetli küçük ve orta ölçekli ekran modülleri, çözümleri ve hizmetleri sunmaktadır. Teknoloji ve yüksek kalite odaklı CNK, sürdürülebilir gelişmeyi sürdürüyor, müşterilerine daha iyi ve istikrarlı hizmetler sunmak için çalışıyor.